中國自研DUV光刻機震撼半導體業 良率考驗仍待克服

近期傳出中國研發出國產浸入式深紫外光刻系統，震撼全球半導體產業，顯示北京可能正縮小美國出口管制所維護的關鍵技術差距。但韓國專家提醒，造出機器只是第一步，中國仍需數年才能驗證設備穩定性與商業量產良率。